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EUV 光是指用于微芯片光刻的極紫外光,涉及在微芯片晶圓上涂上感光材料并小心地將其曝光。這會將圖案打印到晶圓上,用于微芯片設計過程中的后續步驟。
ASML向中國臺灣增資1.4億歐元獲批,從事晶圓測量設備等代工生產
asml計劃投資300億臺幣,在新北市林口宮產業專用園區設立工廠。臺灣經濟部計劃向該項目提供2.85億臺幣(約2900億韓元)的補助金,該工廠將主要把重...
Advantes和 Teradyne最知名的是自動化測試設備。許多其他事情中,ATE工具取出探針卡,將它們與晶圓上的芯片完美對齊,并與晶圓上的電路進行物...
節點的尺寸數值基本上和晶體管的長寬成正比關系,每一個節點基本上是前一個節點的0.7倍。這樣以來,由于0.7X0.7=0.49,所以每一代工藝節點上晶體管...
ASML 稱之為超數值孔徑的研發正在進行中,因此更具體的光學器件,尚不清楚它是否會起作用。距生產還有 10 年的時間,但這正是研發已經在進行的地方,如果...
阿斯麥(ASML)與比利時微電子(IMEC)聯合打造的High-NA EUV光刻實驗室正式啟用
近日,全球領先的半導體制造設備供應商阿斯麥(ASML)與比利時微電子研究中心(IMEC)共同宣布,位于荷蘭費爾德霍芬的High-NAEUV光刻實驗室正式...
今日看點丨ASML今年將向臺積電、三星和英特爾交付High-NA EUV;理想 L9 出事故司機質疑 LCC,產品經理回應
1. ASML 今年將向臺積電、三星和英特爾交付High-NA EUV ? 根據報道,芯片制造設備商ASML今年將向臺積電、英特爾、三星交付最新的高數值...
近日,比利時微電子研究中心(IMEC)與全球光刻技術領軍企業阿斯麥(ASML)共同宣布,在荷蘭費爾德霍芬正式啟用聯合High-NA EUV光刻實驗室。
ASML創下新的EUV芯片制造密度記錄,提出Hyper-NA的激進方案
ASML在imec的ITF World 2024大會上宣布,其首臺High-NA(高數值孔徑)設備已經打破了之前創下的記錄,再次刷新了芯片制造密度的標準。
臺積電魏哲家與ASML高層會面,是否有意購買高數值孔徑極紫外光機臺?
此前,該公司首席執行官魏哲家曾明確表示,過早引入High-NA EUV并無太大經濟效益,直到日前其秘密訪問ASML總部,使市場猜測臺積電是否因此事發生重大轉變。
宿敵英特爾則積極投身于新興高數值孔徑超紫外光刻領域,已有數臺設備投入其芯片制造部門使用。據透露,英特爾正計劃在即將推出的18A(1.8納米)工藝節點中試...
Rapidus對首代工藝中0.33NA EUV解決方案表示滿意,未采用高NA EUV光刻機
在全球四大先進制程代工巨頭(包括臺積電、三星電子、英特爾以及Rapidus)中,只有英特爾明確表示將使用High NA EUV光刻機進行大規模生產。
來源:國芯網,謝謝 編輯:感知芯視界 Link 5月22日消息,據外媒報道,臺積電從ASML購買的EUV極紫外光刻機,暗藏后門,可以在必要的時候執行遠程...
ASML聯手荷蘭埃因霍溫理工大學投入1.8億歐元研發半導體技術
自成立以來,ASML一直在尋求新的發展機會,并不斷審視荷蘭埃因霍溫總部的人才資源及基礎設施是否能滿足其擴張需求。因此,ASML與埃因霍溫理工大學的合作不...
范登布林克指出,更高的數值孔徑能提高光刻分辨率。他進一步解釋說,Hyper NA 光刻機將簡化先進制程生產流程,避免因使用 High NA 光刻機進行雙...
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