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標簽 > asml
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當地時(shí)間6月11日,光刻機巨頭ASML在 領(lǐng)英 平臺發(fā)文悼念公司創(chuàng )始人之一Wim Troost(維姆·特羅斯)離世。 據百能云芯電.子元器.件商.城了解...
2024-06-14 標簽:ASML 480 0
光刻巨人去世 阿斯麥(ASML)光刻機巨頭聯(lián)合創(chuàng )始人去世
圈內突發(fā)噩耗,光刻巨人去世; 阿斯麥(ASML)光刻機巨頭聯(lián)合創(chuàng )始人維姆?特羅斯特去世。 據外媒報道,在當地時(shí)間11日晚,荷蘭光刻機巨頭阿斯麥(ASML...
來(lái)源:EETOP,謝謝 編輯:感知芯視界 Link 從ASML社交帳號得知,ASML創(chuàng )始人之一維姆·特羅斯(Wim Troost) 離世。 ASML 在...
2024-06-13 標簽:ASML 91 0
阿斯麥(ASML)與比利時(shí)微電子(IMEC)聯(lián)合打造的High-NA EUV光刻實(shí)驗室正式啟用
近日,全球領(lǐng)先的半導體制造設備供應商阿斯麥(ASML)與比利時(shí)微電子研究中心(IMEC)共同宣布,位于荷蘭費爾德霍芬的High-NAEUV光刻實(shí)驗室正式...
今日看點(diǎn)丨ASML今年將向臺積電、三星和英特爾交付High-NA EUV;理想 L9 出事故司機質(zhì)疑 LCC,產(chǎn)品經(jīng)理回應
1. ASML 今年將向臺積電、三星和英特爾交付High-NA EUV ? 根據報道,芯片制造設備商ASML今年將向臺積電、英特爾、三星交付最新的高數值...
近日,比利時(shí)微電子研究中心(IMEC)與全球光刻技術(shù)領(lǐng)軍企業(yè)阿斯麥(ASML)共同宣布,在荷蘭費爾德霍芬正式啟用聯(lián)合High-NA EUV光刻實(shí)驗室。
ASML創(chuàng )下新的EUV芯片制造密度記錄,提出Hyper-NA的激進(jìn)方案
ASML在imec的ITF World 2024大會(huì )上宣布,其首臺High-NA(高數值孔徑)設備已經(jīng)打破了之前創(chuàng )下的記錄,再次刷新了芯片制造密度的標準。
臺積電魏哲家與ASML高層會(huì )面,是否有意購買(mǎi)高數值孔徑極紫外光機臺?
此前,該公司首席執行官魏哲家曾明確表示,過(guò)早引入High-NA EUV并無(wú)太大經(jīng)濟效益,直到日前其秘密訪(fǎng)問(wèn)ASML總部,使市場(chǎng)猜測臺積電是否因此事發(fā)生重大轉變。
臺積電轉變態(tài)度?秘密訪(fǎng)問(wèn)ASML總部引發(fā)行業(yè)關(guān)注
宿敵英特爾則積極投身于新興高數值孔徑超紫外光刻領(lǐng)域,已有數臺設備投入其芯片制造部門(mén)使用。據透露,英特爾正計劃在即將推出的18A(1.8納米)工藝節點(diǎn)中試...
Rapidus對首代工藝中0.33NA EUV解決方案表示滿(mǎn)意,未采用高NA EUV光刻機
在全球四大先進(jìn)制程代工巨頭(包括臺積電、三星電子、英特爾以及Rapidus)中,只有英特爾明確表示將使用High NA EUV光刻機進(jìn)行大規模生產(chǎn)。
來(lái)源:國芯網(wǎng),謝謝 編輯:感知芯視界 Link 5月22日消息,據外媒報道,臺積電從ASML購買(mǎi)的EUV極紫外光刻機,暗藏后門(mén),可以在必要的時(shí)候執行遠程...
ASML聯(lián)手荷蘭埃因霍溫理工大學(xué)投入1.8億歐元研發(fā)半導體技術(shù)
自成立以來(lái),ASML一直在尋求新的發(fā)展機會(huì ),并不斷審視荷蘭埃因霍溫總部的人才資源及基礎設施是否能滿(mǎn)足其擴張需求。因此,ASML與埃因霍溫理工大學(xué)的合作不...
2024-05-24 標簽:半導體人工智能芯片產(chǎn)業(yè) 187 0
范登布林克指出,更高的數值孔徑能提高光刻分辨率。他進(jìn)一步解釋說(shuō),Hyper NA 光刻機將簡(jiǎn)化先進(jìn)制程生產(chǎn)流程,避免因使用 High NA 光刻機進(jìn)行雙...
阿斯麥稱(chēng)可遠程癱瘓臺積電光刻機 據彭博社爆料稱(chēng),有美國官員就大陸攻臺的后果私下向荷蘭和中國臺灣官員表達擔憂(yōu)。對此,光刻機制造商阿斯麥(ASML)向荷蘭官...
歐洲芯片行業(yè)應強化研究與關(guān)鍵設備制造,避免過(guò)度追求尖端芯片制造
他進(jìn)一步指出,全球最大設備制造商ASML的成功離不開(kāi)德國光學(xué)及imec的研究貢獻。此外,歐洲還擁有諸如ASM International等小型卻重要的設備企業(yè)。
臺積電張曉強:ASML High-NA EUV成本效益是關(guān)鍵
據今年2月份報道,荷蘭半導體制造設備巨頭ASML公布了High-NA Twinscan EXE光刻機的售價(jià),高達3.5億歐元(約合27.16億元人民幣)...
今日看點(diǎn)丨臺積電稱(chēng)無(wú)需ASML新光刻機即可制造下一代A16芯片;傳比亞迪進(jìn)軍越南受阻
1. 本田裁減中國員工1700 人 或將減少6 月工廠(chǎng)運營(yíng)天數 ? 由于銷(xiāo)量下滑,本田汽車(chē)正在縮減其在中國的全職生產(chǎn)員工隊伍,目前已有約1700名員工同...
盡管High NA EUV光刻機有望使芯片設計尺寸縮減達三分之二,但芯片制造商需要權衡利弊,考慮其高昂的成本及ASML老款設備的可靠性問(wèn)題。
ASML EUV設備訂單全歸英特爾,三星、SK海力士需等到下半年
消息人士透露,ASML此類(lèi)設備年產(chǎn)量大約在五至六臺之間,意即英特爾全數預定了初期產(chǎn)能。他們進(jìn)一步指出,由于英特爾迅速報出重返芯片代工市場(chǎng),從而迅速購得這些設備。
英特爾完成首臺高數值孔徑EUV光刻機安裝,助力代工業(yè)務(wù)發(fā)展
知情人士透露,由于A(yíng)SML高數值孔徑EUV設備產(chǎn)能有限,每年僅能產(chǎn)出5至6臺,因此英特爾將獨享初始庫存,而競爭對手三星和SK海力士預計需等到明年下半年...
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