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標簽　>　光刻

光刻

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光刻是平面型晶體管和集成電路生產中的一個主要工藝。是對半導體晶片表面的掩蔽物（如二氧化硅）進行開孔，以便進行雜質的定域擴散的一種加工技術。

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美光計劃部署納米印刷技術，降低DRAM芯片生產成本

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德累斯頓工廠的電子束光刻系統

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隆基27.09%刷新硅太陽能電池效率世界紀錄

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IBM、美光、應用材料、東京電子宣布合作建設 High-NA EUV 研發中心

12 月 12 日消息，今天早些時候，紐約州長凱西?霍楚爾（Kathy Hochul ）宣布與 IBM、美光、應用材料、東京電子（東京威力科創）等半導體...

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