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標簽　>　光刻膠

光刻膠

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光刻膠（Photoresist）又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。

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標簽：集成電路光刻膠 6316 0

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類別：規則標準 2022-08-12 標簽：光刻膠 683 0

光刻膠與光刻工藝技術立即下載

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據吳中發布的最新消息，簽約項目涵蓋了瑞紅集成電路高端光刻膠總部項目，該項投資高達15億元，旨在新建半導體光刻膠及其配套試劑的生產基地。

2024-01-26 標簽：集成電路半導體光刻膠 265 0

光刻膠數據手冊

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