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光刻技術

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隨著半導體技術的發展，光刻技術傳遞圖形的尺寸限度縮小了2～3個數量級（從毫米級到亞微米級），已從常規光學技術發展到應用電子束、 X射線、微離子束、激光等新技術；使用波長已從4000埃擴展到 0.1埃數量級范圍。光刻技術成為一種精密的微細加工技術。

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光刻技術技術

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基于雙光子光刻的光學封裝方法

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如何減少太陽能電池入射光在電池器件中的反射

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IRDS路線圖光刻委員會主席、廈門大學嘉庚創新實驗室產業運營平臺科技總監，廈門大學半導體科學與技術學院客座教授Mark Neisser對光刻技術與半導體...

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