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對于 7 納米制程，三星和臺積電兩大晶圓代工龍頭都早已入手布局，以便爭奪 IC 設計業者們的訂單。其中，日前傳出三星原定在 2018 年破土動工的韓國華城 18 號生產線，動工時間已經被提前到了 2017 年的 11 月，以便在 2019 年能夠進入 7 納米制程的量產階段。其中，18 號生產線將會架設 10 多臺極紫外光（EUV）設備，以強化生產效能。
至于，臺積電在 7 納米制程的布局，根據臺積電高層之前在法說會上的說法，表示目前已經有 12 個產品設計定案，這使得第一代 7 納米制程將會在 2017 年底或 2018 年達成量產。至于，第二代的 7 納米制程則會在 2019 年達成量產的目標，制程中也將導入EUV的技術。因此，在不論是三星，或者臺積電都將在 7 納米制程上都將引入 EUV 技術的情況下，而這種被視為延續摩爾定律的設備，正是被寄望能推動未來制程進步的重要關鍵。
?
我們關注從一個芯片制程到另一個制程的變化。這些技術清楚地知道進入7納米制程的重要意義，它們自然而然假定從物理上看下一代芯片制程技術會碰到不可逾越的問題，從而使得摩爾定律終結。這樣考慮是正確的，過去也的確出現了巨大的挑戰，但芯片產業曾擊退這些挑戰；于是，許多人錯誤地相信產業會再次擊退挑戰。我的看法是，可能會成功，也可能不會，但物理并非唯一的挑戰。
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