摩爾定律工藝節點的形成介紹及導體工藝節點的演進分析

　　摩爾定律下的工藝節點的形成

　　1958年，美國德州儀器公司的工程師杰克·基爾比制成了世界上第一片集成電路，1962年，德州儀器公司建成世界上第一條商業化集成電路生產線。此后，在市場需求的驅動下，集成電路發展成為一個龐大的產業，從小規模集成電路（SSI）到中規模集成電路（MSI）、再到大規模集成電路（LSI），一直到現在的超大規模集成電路（VLSI）。集成度被看作是描述集成電路工藝先進程度的一個重要指標，通常用晶體管數目來表示集成度高低，一個芯片里含有的晶體管數目越多，芯片的功能也就越強。因此，集成電路的規模反映了集成電路的先進程度。

　　集成度的提高，不僅意味著單個晶體管的尺寸縮小了，同時也意味著采用了更加先進的制造工藝，因為晶體管尺寸與制造工藝之間有著密切的聯系?？梢哉f，集成電路技術的發展過程，就是把晶體管尺寸做得越來越小的過程。九十年代的大規模集成電路普遍采用的是微米級工藝，筆者在上世紀90年代初做設計時就是采用5微米和3微米標準單元庫，這也是那個年代的主流工藝（晶圓尺寸是3英寸和4英寸）。二十多年過去了，現在已經發展到納米級工藝了，中芯國際去年實現量產的28納米工藝，比起3微米工藝，尺寸縮小了100多倍。

　　這些工藝演進的背后，是更多金錢的投入。因為更小的尺寸意味著對設計和制造設備以及芯片材料等都有更為苛刻的要求，為了克服技術門檻，芯片企業每年需要投入數億、數十億美元的研發經費，不知有多少世界一流的科學家和工程師都參與了這一耗資巨大的芯片微縮化工程。

　　那么5微米、3微米、以及90納米、28納米等等這些“節點”是怎樣形成的呢？可以說這是描述摩爾定律進程的一個指標。摩爾定律說，半導體芯片每一年半（后來改為兩年），其集成度翻一番，并伴隨著性能的增長和成本的下降。怎樣描述這個集成度呢？這就有了工藝“節點”的說法。即工藝節點數值越小，表征芯片的集成度就越高。這些數值也被《國際半導體技術藍圖（ITRS）》用來劃分半導體工藝的階段（也稱工藝代），或描述芯片的先進性。

　　這里有必要解釋這些數值表示的是什么尺寸。例如28nm工藝，這里的28nm是指晶體管柵極的最小線寬（柵寬）。實際設計中除了柵極，其他的設計尺寸一般都大于工藝節點的尺寸，例如晶體管之間的金屬連線寬度、有源區寬度等。

　　▲ 圖一 與非門、或門的版圖

　　圖一是個例子。在這個與非門和或非門的版圖里，白的是襯底層，紅的是多晶硅層，藍的是金屬層。這其中只有紅的多晶硅柵極的最小線寬是可以達到28nm的，其他一切尺寸都是要大于28nm。具體各層線寬的最小值需要看該工藝的設計規則（Design Rull）。

　　為什么用柵極線寬而不是其他的線寬來表征工藝節點，這是因為柵極寬度一般是整個設計中最重要的參數。在CMOS電路中，MOS晶體管最主要的功能就是通過柵極控制源漏之間的電流。這個電流受很多因素影響，例如晶體管遷移率、絕緣層電容，還有各種效應等，這些都與半導體工藝有關，工藝定了設計很難改變。一般情況下唯一可以設計的參數就是溝道寬長比，溝道寬長比就是晶體管柵極的長寬比（長溝器件可以直接近似，短溝器件要加修正項）。也就是說在電壓一樣的情況下，柵極越寬，溝道就越長，源漏電流就越小。

　　所以在設計中，溝道越短，意味著晶體管的尺寸越小，單位面積可以存放的晶體管數量就越多，芯片集成度就越高；換一種說法是設計出來的芯片面積就越小，芯片的價格就越便宜。當然這是在只考慮生產成本，不考慮NRE費用的前提下。