英特爾率先推出業界高數值孔徑 EUV 光刻系統
來源：Yole Group
英特爾代工已接收并組裝了業界首個高數值孔徑（高NA）極紫外（EUV）光刻系統。 新設備能夠大大提高下一代處理器的分辨率和功能擴展，使英特爾代工廠能夠繼續超越英特爾 18A 的工藝領先地位。
高數值孔徑 EUV 是 ASML 與英特爾數十年合作后開發的下一代光刻系統。 作為高數值孔徑 EUV 的先行者，英特爾代工廠將能夠在芯片制造方面提供前所未有的精度和可擴展性。這反過來將促使英特爾能夠開發具有最具創新特性和功能的芯片——這些處理器對于推動人工智能和其他新興技術的進步至關重要。
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審核編輯 黃宇
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