英特爾完成高數值孔徑EUV光刻機，將用于14A制程

芯片巨頭英特爾于18日宣布，在其俄勒岡州研究機構中成功組裝了全球首臺用于商業領域的高數值孔徑極紫外光（High-NA EUV）光刻機。

半導體設備制造商阿斯麥（ASML）于去年底在社交媒體上發布照片，揭示已向英特爾提供第一套高數值孔徑EUV系統的關鍵部件。如今英特爾宣布已完成組裝，這無疑展示了其在行業中的領先地位。

英特爾正在實施一項為期四年的五個制程節點發展計劃，預計最尖端的工藝將達到Intel 18A級別。在此基礎上，英特爾計劃在Intel 14A制程中正式引入高數值孔徑EUV技術。據分析師預測，這套設備的售價可能高達2.5億歐元。

英特爾近期表示，將在2027年前推出14A和Intel 14A-E兩個制程。

英特爾強調，目前正在對高數值孔徑EUV設備TWINSCAN EXE:5000進行校準，該設備與公司晶圓廠內的其他技術相結合，有望實現比現有EUV設備更小的特征尺寸，縮小至原來的1.7倍。

此外，英特爾還計劃購買下一代TWINSCAN EXE:5200B系統。