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兩家公司倒在量產前夕,垂直GaN為什么落地難

Hobby觀察 ? 來源:電子發燒友網 ? 作者:梁浩斌 ? 2024-04-06 00:04 ? 次閱讀
電子發燒友網報道(文/梁浩斌)今年一月,電子發燒友網曾報道專注于垂直GaN器件的美國GaN IDM初創公司NexGen Power Systems破產倒閉;而在今年3月,另一家位于美國紐約州的垂直GaN器件公司Odyssey也宣布變賣旗下的晶圓廠資產,并在出售資產后解散公司。
這兩家公司此前都擁有自己的晶圓廠,并都推出了性能指標亮眼的垂直GaN器件工程樣品,但都倒在了量產前的道路上。而另一邊功率GaN行業在充電頭應用中爆發之后,已經拓展到各大電源應用領域,近年英飛凌、瑞薩等功率半導體巨頭也在積極并購市場上的GaN芯片公司。
盡管一些專注于垂直GaN的公司已經倒下,但從技術上看,垂直GaN依然具備很大的應用前景。
襯底成本高,無法支撐垂直GaN落地
垂直GaN中“垂直”是指器件的結構,簡單可以理解為器件中陽極和陰極相對的位置,目前大多數硅基GaN器件是平面型結構,即陽極和陰極處于芯片同一平面上,導通電流在器件中橫向流動;而垂直型GaN一般是基于GaN襯底,GaN襯底底面為陰極,陽極則位于上方,導通電流是豎向流動。
相比橫向的硅基GaN或是SiC基GaN器件,垂直GaN器件由于需要采用GaN襯底同質外延層,具有更低的位錯密度,器件可靠性高,性能也更高。而具體到器件上,GaN二極管晶體管都能采用垂直結構。
由于器件結構上的優勢,在相同的器件面積下,可以通過增加位于晶體管內部的漂移層(用于傳導電流)的厚度,來提高電壓等級,能夠用于更高電壓的應用中;同時,電流導通路徑的面積大,可以承受較高的電流密度。
另外,垂直結構能夠更容易產生雪崩效應,在超過擊穿電壓的情況下,雪崩最初通過反向極化柵源二極管發生,隨后導致雪崩電流增加柵源電壓并且溝道打開并導通。這是一種設備自我保護的重要屬性,如果器件兩端電壓或導通的電流出現峰值,擁有雪崩特性的器件就可以吸收這些電涌并保持正常運行,在工業領域有很大的應用空間。
一般來說,目前主流的功率GaN都建立在硅基、SiC基等襯底上,由于GaN與其他襯底材料晶格匹配度較低,為了材料生長以及電學特性,需要在襯底與GaN外延層之間加入一層“緩沖層”,比如AlN/AlGaN。
但與橫向器件不同的是,垂直GaN器件峰值電場往往出現在遠離表面的位置,從而增強抗擊穿的魯棒性,但這也導致了垂直結構GaN器件需要建立在GaN襯底上。GaN單晶襯底目前由于制備效率低,價格極高。
目前主流的制作方式是先在藍寶石襯底上生長出GaN厚膜,分離后的GaN厚膜再作為外延用的襯底。據某國內GaN器件廠商透露,目前2英寸的GaN襯底價格高達1.5萬元人民幣,而8英寸硅外延片的市場價不到300元。
包括NexGen 和Odyssey,都采用了GaN襯底來制造垂直GaN器件,成本居高不下或許也是商業上失敗的重要原因。
垂直GaN領域持續創新,中國專利崛起
盡管商業化進展目前不太理想,但作為性能上具備優勢的技術路線,業界從研究機構到公司,都在持續投入到垂直GaN的開發和創新當中。
比如前面提到GaN襯底成本過高的問題,實際上目前業界也出現了一些不需要GaN襯底的垂直GaN器件制造方法,比如今年2月北京理工大學和北京大學的合作團隊開發了一種使用超薄AlGaN緩沖層,基于SiC襯底的垂直GaN SBD器件。
去年10月,日本兩家公司OKI(沖電氣工業株式會社)和 信越化學合作開發了一項新技術,據稱可以降低垂直GaN器件90%的制造成本。這種技術采用信越化學專門為GaN外延生長而開發的QST基板,由于熱膨脹系數與GaN相匹配,因此在生長GaN外延的過程中缺陷密度極低,可簡化緩沖層,降低生長時間,提升制備效率。
同時8英寸QST襯底的成本與2英寸GaN襯底的成本大致相同,因此可以大幅降低器件的制造成本。
在技術創新的背后,從專利的數量也能夠看出垂直GaN領域的活躍情況。
根據knowmade的報告,垂直GaN功率器件的專利開發從2005年開始起步,早期主要由日本公司,包括住友電工、羅姆、豐田等公司領導;在2009到2012年陷入了瓶頸期,每年的發明專利數量較少;2013年在住友電工、豐田、首爾半導體、Avogy(2017年轉讓專利到NexGen)等玩家推動下,專利活動迎來了爆發。
后續富士電機、電裝、松下、博世等玩家的加入,為垂直GaN功率器件領域注入了新鮮血液。而從2019年開始,中國山東大學和西安交通大學開始進入垂直GaN領域的開發,并獲得大量新的專利IP;在企業方面,聚力成半導體則成為了垂直GaN領域重要的中國公司之一。
報告中還提到,近幾年中國大學研究機構開始加強對知識產權的重視,特別是西安電子科技大學和電子科技大學。這也意味著國內大學研究機構在垂直GaN賽道上正在產出創新的技術,并利用專利組合來推動國內垂直GaN技術的發展。
當然,整體來看,日本依然在垂直GaN的知識產權領域占有主導位置,這與日本在GaN材料領域起步較早有很大關系。
寫在最后
垂直GaN作為下一代功率半導體的重要技術之一,商業落地受到很多方面的制約,產業投資規模實際上也稱不上大。但創新技術往往距離實用落地僅一步之遙,持續的投資是支撐新技術落地的唯一路徑,正如近一年里倒閉的兩家垂直GaN公司,都倒在了產品量產前夕。也希望隨著產業鏈的成熟以及新的降本技術出現,能夠讓垂直GaN更快幫助不同領域的應用升級。
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