動態 | 阿斯麥發布Q2財報:EUV光刻機產能大增
掌握全球唯一EUV***研發、生產的荷蘭ASML（阿斯麥）公司今天發布了2019年Q2季度財報，當季營收25.68億歐元，其中凈設備銷售額18.51億歐元，總計出貨了41臺***，其中EUV***7臺。
在Q2季度中，ASML公司獲得了10臺EUV***訂單，而且這些訂單不只是用于邏輯半導體工藝，還首次用于存儲芯片——在此之前，三星表示將在未來的內存芯片生產中使用EUV***，ASML的存儲芯片訂單應該是來自三星了。
對于EUV***，目前最主要的問題還是產能不足，ASML現在出售的***型號是NXE:3400B，每小時晶圓產能是150到155wph，不過Q2季度中ASML已經升級到了NXE:3400C型號，產能提升到了170wph，已經有客戶做到了每天生產2000片晶圓的水平了。
根據ASML的路線圖，未來EUV***的產品還會再有一次提升，每小時晶圓產能最終將達到185wph，不過要等到2021到2022年了。
再往后的話，EUV***就要進入下一代了，提升光刻分辨率要靠新的物鏡系統，ASML前幾年就投資了蔡司光學20億美元，雙方將共同研發NA=0.55的High NA（高數值孔徑）透鏡，可以進一步提升***的分辨率。
根據ASML的計劃，High NA（高數值孔徑）透鏡的新一代EUV***與在3nm節點引入，時間點是2023年到2025年，距離現在還早呢。
聲明：本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人，不代表電子發燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用，如有內容侵權或者其他違規問題，請聯系本站處理。
舉報投訴
-
ASML
+關注
關注
7文章
696瀏覽量
40822 -
EUV光刻機
+關注
關注
2文章
127瀏覽量
15034
原文標題：動態 | ASML 發布Q2財報：EUV光刻機產能大增
文章出處：【微信號：wc_ysj，微信公眾號：旺材芯片】歡迎添加關注！文章轉載請注明出處。
發布評論請先 登錄
相關推薦
Rapidus對首代工藝中0.33NA EUV解決方案表示滿意，未采用高NA EUV光刻機
在全球四大先進制程代工巨頭（包括臺積電、三星電子、英特爾以及Rapidus）中，只有英特爾明確表示將使用High NA EUV光刻機進行大規模生產。
荷蘭阿斯麥稱可遠程癱瘓臺積電光刻機
disable）臺積電相應機器，而且還可以包括最先進的極紫外光刻機（EUV）。 這就意味著阿斯麥（ASML）留了后門，隨時有能力去遠程癱瘓制造芯片的光刻機。 要知道我國大陸市場已經連續三個季度成為阿斯麥（ASML）最大市場，而
臺積電A16制程采用EUV光刻機，2026年下半年量產
據臺灣業內人士透露，臺積電并未為A16制程配備高數值孔徑（High-NA）EUV光刻機，而選擇利用現有的EUV光刻機進行生產。相較之下，英特爾和三星則計劃在此階段使用最新的High-N
英特爾突破技術壁壘：首臺商用High NA EUV光刻機成功組裝
英特爾的研發團隊正致力于對這臺先進的ASML TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV光刻機進行細致的校準工作，以確保其能夠順利融入未來的生產線。
光刻機的發展歷程及工藝流程
光刻機經歷了5代產品發展，每次改進和創新都顯著提升了光刻機所能實現的最小工藝節點。按照使用光源依次從g-line、i-line發展到KrF、ArF和EUV；按照工作原理依次從接觸接近式光刻機
發表于 03-21 11:31
?1931次閱讀
ASML 首臺新款 EUV 光刻機 Twinscan NXE:3800E 完成安裝
3 月 13 日消息，光刻機制造商 ASML 宣布其首臺新款 EUV 光刻機 Twinscan NXE:3800E 已完成安裝，新機型將帶來更高的生產效率。 ▲ ASML 在 X 平臺上的相關
佳能預計到2024年出貨納米壓印光刻機
來源：DIGITIMES ASIA 佳能預計其納米壓印光刻機將于今年出貨，與ASML的EVU設備競爭市場，因為世界各地的經濟體都熱衷于擴大其本土芯片產能。 佳能董事長兼首席執行官Hiroaki
ASML 2023年Q4 財報發布，光刻機訂單大增
來源：AIot工業檢測，謝謝 編輯：感知芯視界 Link 隨著芯片需求的不斷增長，芯片制造商正加大采購晶圓廠設備的力度，以提高產能。作為EUV光刻機制造商，ASML受益于這一趨勢，其2023
三星希望進口更多ASML EUV***，5年內新增50臺
EUV曝光是先進制程芯片制造中最重要的部分，占據總時間、總成本的一半以上。由于這種光刻機極為復雜，因此ASML每年只能制造約60臺，而全球5家芯片制造商都依賴ASML的EUV光刻機，包
能耗成了EUV***的最大掣肘
電子發燒友網報道（文/周凱揚）隨著雙碳目標的提出，越來越多的行業應用開始注意到能耗問題，尤其是在半導體制造設備上。就拿我們常常提及的EUV光刻機來說，就是一個不折不扣的耗電大戶，結合光刻半導體
日本的EUV***引進之路
電子發燒友網報道（文/周凱揚）隨著歐美韓等國家均已引進EUV光刻機，為其晶圓代工廠提供最先進的工藝支持，日本雖然半導體制造水平這些年來提升不大，卻也計劃引進EUV光刻機來打破這一困局，
EUV光刻市場高速增長，復合年增長率21.8%
EUV掩膜，也稱為EUV掩?；?b class='flag-5'>EUV光刻掩膜，對于極紫外光刻（EUVL）這種先進光刻技術至關重要
工商網監
評論