看國產(chǎn)22nm光刻機如何制造10納米芯片

我國成功研制出世界首臺分辨力最高紫外超分辨光刻裝備

可加工22納米芯片

大家可自行參考11月29日電國家重大科研裝備研制項目“超分辨光刻裝備研制”29日通過(guò)驗收，這是我國成功研制出的世界首臺分辨力最高紫外超分辨光刻裝備。該***由中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所研制，光刻分辨力達到22納米，結合多重曝光技術(shù)后，可用于制造10納米級別的芯片。

中科院理化技術(shù)研究所許祖彥院士等驗收組專(zhuān)家一致表示，該***在365納米光源波長(cháng)下，單次曝光最高線(xiàn)寬分辨力達到22納米。項目在原理上突破分辨力衍射極限，建立了一條高分辨、大面積的納米光刻裝備研發(fā)新路線(xiàn)，繞過(guò)了國外相關(guān)知識產(chǎn)權壁壘。

▲超分辨光刻設備加工的4英寸光刻樣品。

***是制造芯片的核心裝備，我國在這一領(lǐng)域長(cháng)期落后。它采用類(lèi)似照片沖印的技術(shù)，把一張巨大的電路設計圖縮印到小小的芯片上，光刻精度越高，芯片體積可以越小，性能也可以越高。但由于光波的衍射效應，光刻精度終將面臨極限。

▲中科院光電所科研人員展示利用超分辨光刻設備加工的超導納米線(xiàn)單光子探測器。

為突破極限、取得更高的精度，國際上目前采用縮短光波、增加成像系統數值孔徑等技術(shù)路徑來(lái)改進(jìn)***，但也遇到裝備成本高、效率低等阻礙。

項目副總師胡松介紹，中科院光電所此次通過(guò)驗收的表面等離子體超分辨光刻裝備，打破了傳統路線(xiàn)格局，形成了一條全新的納米光學(xué)光刻技術(shù)路線(xiàn)，具有完全自主知識產(chǎn)權，為超材料/超表面、第三代光學(xué)器件、廣義芯片等變革性領(lǐng)域的跨越式發(fā)展提供了制造工具。

▲項目副總設計師胡松研究員介紹超分辨光刻裝備研制項目攻關(guān)情況。

▲中科院光電所科研人員操作超分辨光刻設備。

據了解，該***制造的相關(guān)器件已在中國航天科技集團公司第八研究院、電子科技大學(xué)太赫茲科學(xué)技術(shù)研究中心、四川大學(xué)華西醫院、中科院微系統所信息功能材料國家重點(diǎn)實(shí)驗室等多家科研院所和高校的重大研究任務(wù)中取得應用。

▲中科院光電所科研人員操作超分辨光刻設備。

項目在原理上突破分辨力衍射極限，建立了一條高分辨、大面積的納米光刻裝備研發(fā)新路線(xiàn)，繞過(guò)了國外相關(guān)知識產(chǎn)權壁壘。

研制團隊中科院光電技術(shù)研究所相關(guān)負責人29日表示，“相關(guān)領(lǐng)域國外禁運我們再也不用怕了！”

總之，國產(chǎn)***的出現，會(huì )極大提升我國的芯片加工水平，有人估算，每年至少為我國節省3000億美元外匯。

壯哉！***。

但是呢，網(wǎng)絡(luò )上已經(jīng)把此事件噴的一無(wú)是處。