北京北方華創微電子裝備有限公司于2024年4月5日公開了一項名為“半導體設備及其晶舟”的專利,專利號CN117832112A。這項發明涉及一種晶舟,可以配合半導體設備實現批量半導體工藝處理,同時也能提高設備良率和減少污染風險。
具體來說,這種晶舟包括副晶舟支架,能夠在批量半導體工藝處理達到預定進度時,以上下層疊的方式支撐多個晶圓,使其暫時離開主晶舟支架。當主晶舟支架旋轉至特定角度后,副晶舟支架會進行復位操作,讓晶圓重新回到主晶舟支架。這樣做不僅可以改變晶圓與主晶舟支架的接觸位置,防止晶邊局部薄膜缺失,還能消除因顆粒污染而導致的半導體設備故障,從而提高設備良率。此外,這種設計并未增加半導體設備在處理晶圓時的制程道數。
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