目前,光刻機主要分為EUV光刻機和DUV光刻機。DUV是深紫外線,EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術,EUV使用的是深紫外光刻技術。EUV為先進工藝芯片光刻的發展方向。那么duv光刻機和euv光刻機區別是是什么呢?
duv光刻機和euv光刻機區別
1.基本上duv只能做到25nm,而euv能夠做到10nm以下晶圓的生產。
2. duv主要使用的是光的折射原理,而euv使用的光的反射原理,內部必須是真空操作。
以上就是duv光刻機和euv光刻機區別了,現在基本都是euv光刻機。
文章綜合php中文網、科創板日報、百度百科
編輯:何安
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