據韓國媒體報道稱,三星電子和ASML就引進今年生產的EUV光刻機和明年推出高數值孔徑極紫外光High-NA EUV光刻機達成采購協議。
High-NA EUV光刻機精密度更高、設計零件更多,是延續摩爾定律的關鍵,據悉,三星電子已獲得ASML今年EUV光刻機產能中的18臺。這意味三星僅在EUV光刻機上就將投資超過4兆韓元。
光刻機依然來自ASML,全球只有ASML可以量產,其它公司暫時還沒有能力研發出光刻機。
據外媒報道,半導體巨頭ASML的下一代光刻機將在2023年上半年產出第一臺樣機,并且有5份試驗機訂單將在2024年交貨,臺積電、英特爾、三星這些頂級芯片廠商,預計將在2025年開始使用最新一代光刻機的量產機。
有網友推測,中芯國際買EUV光刻機至少還要再等3年。如果3年后針對EUV光刻機的出貨限制被解除,中芯國際或能買到EUV光刻機。
文章綜合快科技、雪花、良言科技、科技強哥說
編輯:黃飛
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