半導體制造中混合氣體需精確控制

在半導體制造中，進行氣體定量混合配氣使用是一個關鍵的步驟，將不同氣體按一定的比例混合到一起，配出不同濃度、多種組分的工藝氣體后才能更好的滿足工藝性能的要求，以確保半導體器件的制造過程得以控制和優化。以下是半導體制造中氣體混合的一些常見用途和相關操作。

1、清洗:氣體混合用于制備清洗氣體，例如氫氣和氮氣的混合物，以去除制造設備和器件上的雜質和殘留物，確保器件的純度。

2、退火:氣體混合物，通常是氫氣和氮氣的混合物，用于高溫氫退火，以去除晶格缺陷并提高晶片的質量。

3、制備氣氛:某些半導體制造步驟需要特定的氣氛，以防止氧化或其他不良反應。氣體混合物可用于創建這些特殊氣氛，例如氫氣和氮氣的混合物。

4、化學氣相沉積(CVD):CVD是一種半導體薄膜制備工藝，氣體混合物用于在晶片表面沉積薄膜?；旌蠚怏w的組成和流量必須精確控制，以實現所需的薄膜性質。

5、刻蝕:在半導體刻蝕過程中，混合氣體通常用于去除薄膜或材料的特定部分。例如，氟化氫和氮氣的混合物可用于硅氮化刻蝕。

6、氣相摻雜:半導體器件中的摻雜步驟可能需要混合氣體，以引入摻雜物質，如硼、磷或砷。

7、高溫工藝:高溫工藝，如退火和熱處理，通常需要混合氣體來實現所需的氣氛和溫度控制。

在半導體制造中，氣體混合的關鍵是確?；旌蠚怏w的成分、流量和穩定性能夠滿足工藝的要求，這通常需要精確的氣體混合系統，包括流量控制器、混合室和監測裝置，以確保工藝參數的精確控制。在半導體制造中，需要精確控制氣體混合物的成分和比例。確保氣體供應系統具備精確的流量控制和混合控制能力，以滿足特定工藝的要求。 對于混合氣體，如果知道具體的組分比例，則可以選擇熱式或差壓式；因為熱式和差壓式原理雖然是與氣體的質量流量相關，但是也會與氣體自身的其它特性相關，所以需要知道具體是什么氣體或者混合氣體中每種氣體的大概比例，這樣測量出的流量值才會相對準確。

奧松電子研發的AS200系列氣體質量流量控制器，適用于多種常規氣體，提高了氣體質量流量控制測量結果的準確度及可靠性。重復精度高達±0.2%F.S.；1×10 -10 Pa·m3 /sec He的低泄露率，氣密性好，保障生產安全；可支持多種信號輸出，包括數字信號、1～5V 模擬信號以及4～20mA模擬信號，可以使用單電源（+15～+24 VDC），適用于不同的工作場景；標準開放的通訊協議為客戶自行開發控制、采集軟件提供便利；同時，產品還提供功能強大的免費客戶端上位機軟件，方便用戶調試操作。

AS200系列產品是奧松電子采用先進的MEMS技術研發，在傳感器的驅動，零點漂移的控制和閥控等諸多方面都采用了獨特的技術，保證了產品的高性能、高品質和高可靠性，是一款穩定性好、精度高、泄漏率低、耐壓高的優質儀器。 其典型的應用場景包括：集成電路工藝設備，如外延、擴散、等離子刻蝕、濺射、離子注入和各種CVD等設備；其他行業設備，如光纖熔煉、微反應裝置、混氣配氣系統、氣體取樣裝置、毛細管測量儀、氣相色譜儀及其它分析儀器等。

審核編輯 黃宇