同軸光源 助力機器視覺清晰成像！

同軸光源Coaxial Light

在機器視覺中，常借助光源來提高成像效果。同軸光源作為一種輔助光源，可用于被測物表面平整的情況下。根據同軸光源的特點，只有平整的物面才能較好的將光反射到鏡頭中。不平整的物面上的光被斜著反射到其他地方，因此會在圖像中呈現暗色。因此那些不平整的地方，才能夠較好的凸顯出來。

CCS光源LFV3系列產品圖

光源通過漫射板發散打到半透半反射分光片上，該分光片將光反射到物體上，再由物體反射到鏡頭中。由于物體反射后的光與相機處于同一個軸線上，因此，此種方式的光源被稱之為同軸光源。它有兩大作用：

篩選與相機同軸的光線

由于其特殊的光學設計，能夠同時篩選射向物方和像方的光線，使用得當可以讓機器視覺檢測更加便捷清晰。

幫助視覺系統捕捉特征

可以通過篩選光線，通過明暗的對比，凸顯被測物特征。

使用同軸光源應該注意：

同軸光不能離物體太近，否則會因為其發光面的漏光而導致光面不是漫射的均勻光。由于中間有塊半透半反射玻璃，且當同軸光用于物體和鏡頭之間時，會影響成像的精度。其可能導致邊緣變虛，不夠銳利。

構成例

LFV3-100

構成例

CCS的LFV3系列，通過使用半透鏡，可使LED擴散光落射在相對于相機軸的同軸上。

成像實例

金屬端口保護蓋的刻印字符成像

內容：字符識別

被測物：端口保護蓋

方案前：LED條形光源

方案后：LFV3-50RD

結果：強調刻印字符

如上圖所示，被測物金屬端口保護蓋在使用條形光源時難以讀取表面的刻印字符，而應同軸光源LFV3-50RD（A）時，可以抑制表面凹凸的影響，使刻印字符清晰的成像。

基板的通孔成像

內容：外觀檢測

被測物：基板

方案前：LED環形光源

方案后：LFV3-100RD（A）

結果：均勻度的提高

如上圖所示，被測物基板在使用環形光源時難以使底層與通孔之間差異成像，而應同軸光源LFV3-100RD（A）時，可以使底層與通孔之間差異清晰的成像。

應用領域

同軸光源一般是應用在反光平面劃痕檢測、包裝條碼識別，烤瓷表面檢測、平面瑕疵檢測、金屬板表面檢測、PCB板引導定位等。例如芯片、晶片表面檢測，一維碼、二維碼識別，物體表面劃傷，文字等檢測，金屬表面、軸承、飲料罐上刻印字符檢測，MARK點定位等等。

在工業檢測、自動化、電子通訊、半導體、生物醫療、科學研究等領域運用廣泛。