碳化硅 (SiC) 是一種由硅 (Si) 和碳 (C) 組成的半導體化合物,屬于寬帶隙 (WBG) 材料家族。它的物理鍵非常強,使半導體具有很高的機械、化學和熱穩定性。寬帶隙和高熱穩定性使 SiC器件能夠在高于硅的結溫下使用,甚至超過 200°C。碳化硅在功率應用中的主要優勢在于其低漂移區電阻,這是高壓功率器件的關鍵因素。[這里是“關于 GaN 的 10 件事”]
由于結合了優異的物理和電子特性,基于 SiC 的功率器件正在推動電力電子技術的徹底變革。盡管這種材料早已為人所知,但它作為半導體的使用是相對較新的,這在很大程度上要歸功于大型和高質量晶片的可用性。近幾十年來,人們一直致力于開發特定且獨特的高溫晶體生長工藝。盡管 SiC 具有不同的多晶型晶體結構(也稱為多型),但 4H-SiC 多型六方晶體結構最適合高功率應用。
碳化硅的主要特性是什么?
硅與碳的結合使這種材料具有出色的機械、化學和熱性能,包括:
高導熱性
低熱膨脹和優異的抗熱震性
低功率和開關損耗
高能效
高工作頻率和溫度(工作溫度高達 200°C 結)
小芯片尺寸(具有相同的擊穿電壓)
出色的熱管理,可降低冷卻要求
使用壽命長
碳化硅在電子領域有哪些應用?
碳化硅是一種非常適合電力應用的半導體,這首先要歸功于它能夠承受高電壓,比硅高出十倍?;谔蓟璧陌雽w具有更高的熱導率、更高的電子遷移率和更低的功率損耗。碳化硅二極管和晶體管也可以在更高的頻率和溫度下工作,而不會影響可靠性。SiC器件的主要應用,如肖特基二極管和FET/MOSFET晶體管,包括轉換器、逆變器、電源、電池充電器和電機控制系統。
為什么 SiC 在功率應用中勝過 Si?
盡管是電子產品中使用最廣泛的半導體,但硅開始顯示出一些局限性,尤其是在高功率應用中。這些應用中的一個相關因素是半導體提供的帶隙或能隙。當帶隙高時,它使用的電子設備可以更小、運行更快、更可靠。它還可以在比其他半導體更高的溫度、電壓和頻率下工作。雖然硅的帶隙約為 1.12eV,但碳化硅的帶隙值約為 3.26eV 的近三倍。
為什么 SiC 可以承受如此高的電壓?
功率器件,尤其是 MOSFET,必須能夠處理極高的電壓。由于電場的介電擊穿強度大約是硅的十倍,SiC 可以達到非常高的擊穿電壓,從 600V 到幾千伏。SiC 可以使用比硅更高的摻雜濃度,并且漂移層可以做得很薄。漂移層越薄,其電阻越低。理論上,給定高電壓,單位面積漂移層的電阻可以降低到硅的1/300。
為什么 SiC 在高頻下的性能優于 IGBT?
在大功率應用中,過去主要使用 IGBT 和雙極晶體管,目的是降低在高擊穿電壓下出現的導通電阻。然而,這些器件會提供顯著的開關損耗,從而導致發熱問題限制了它們在高頻下的使用。使用 SiC,可以制造實現高電壓、低導通電阻和快速運行的器件,例如肖特基勢壘二極管和 MOSFET。
哪些雜質用于摻雜 SiC 材料?
在其純凈形式中,碳化硅的行為類似于電絕緣體。通過控制添加雜質或摻雜劑,SiC 可以表現得像半導體。P型半導體可以通過摻雜鋁、硼或鎵來獲得,而氮和磷的雜質會產生N型半導體。根據紅外輻射、可見光和紫外線的電壓或強度等因素,碳化硅具有在某些條件下導電但在其他條件下不導電的能力。與其他材料不同,碳化硅能夠控制在寬范圍內制造器件所需的 P 型和 N 型區域。由于這些原因,SiC 是一種適用于功率器件的材料,并且能夠克服硅提供的限制。
SiC 如何實現比硅更好的熱管理?
另一個重要參數是熱導率,它是半導體如何散發其產生的熱量的指標。如果半導體不能有效散熱,則會對器件可以承受的最大工作電壓和溫度進行限制。這是碳化硅優于硅的另一個領域:碳化硅的熱導率為 1490 W/mK,而硅的熱導率為 150 W/mK。
SiC 反向恢復時間與 Si-MOSFET 相比如何?
SiC MOSFET 與其硅對應物一樣,具有內部體二極管。體二極管提供的主要限制之一是不希望的反向恢復行為,當二極管在承載正正向電流時關閉時會發生這種情況。因此,反向恢復時間 (trr) 成為定義 MOSFET 特性的重要指標。圖 比較了 1000V Si 基 MOSFET 和 SiC 基 MOSFET 的 trr??梢钥闯?,SiC MOSFET 的體二極管速度極快:trr 和 Irr 的值小到可以忽略不計,能量損失 Err 大大降低。
圖 :反向恢復時間比較(圖片:Rohm)
為什么軟關斷對于短路保護很重要?
SiC MOSFET 的另一個重要參數是短路耐受時間 (SCWT)。由于 SiC MOSFET 占用的芯片面積非常小,并且具有高電流密度,因此它們承受可能導致熱斷路的短路的能力往往低于硅基器件。以 TO247 封裝的 1.2kV MOSFET 為例,在 Vdd=700V 和 Vgs=18V 時的短路耐受時間約為 8-10 μs。隨著 Vgs 降低,飽和電流降低,耐受時間增加。隨著 Vdd 降低,產生的熱量更少,耐受時間更長。由于關斷 SiC MOSFET 所需的時間極短,因此當關斷率 Vgs 較高時,高 dI/dt 會導致嚴重的電壓尖峰。因此,應使用軟關斷來逐漸降低柵極電壓,避免出現過壓峰值。
為什么隔離式柵極驅動器是更好的選擇?
許多電子設備既是低壓電路又是高壓電路,它們相互連接以執行控制和供電功能。例如,牽引逆變器通常包括低壓初級側(電源、通信和控制電路)和次級側(高壓電路、電機、功率級和輔助電路)。位于初級側的控制器通常使用來自高壓側的反饋信號,如果不存在隔離柵,則很容易受到損壞。隔離柵將電路從初級側電隔離到次級側,形成單獨的接地參考,實現所謂的電流隔離。這可以防止不需要的 AC 或 DC 信號從一側傳輸到另一側,從而損壞電源組件。
審核編輯:湯梓紅
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