ASML公司前兩天發布了財報,全年凈銷售額140億歐元,EUV光刻機出貨31臺,帶來了45億歐元的營收,單價差不多11.4億歐元了。
雖然業績增長很亮眼,但是ASML也有隱憂,實際上EUV光刻機的出貨不及預期的35臺,而且他們還宣布了下一代高NA的EUV光刻機要到2025-2026年之間才能規模應用,意味著要延期了。
此前信息顯示,ASML下一代EUV光刻機最早是2022年開始出樣,大規模量產是2024-2025年間。
ASML的EUV光刻機目前主要是NEX:3400B/C系列,NA數值孔徑是0.33,下一代EUV光刻機是NEX:5000系列,可將NA提升到了0.55,意味著光刻機的分辨率提升了70%。(注:NA越高,光刻機精度越高)
目前的EUV光刻機可以用于制造7nm到3nm工藝的芯片,下代EUV光刻機則是針對3nm以下的節點,2nm甚至未來的1nm工藝都要用到NA 0.55的EUV光刻機。
責任編輯:PSY
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